实验平台 Facilities

扫描热显微镜实验系统

用途：纳米加工/操纵，以及材料表面形貌、纳米尺度温度、材料局域热力性质等测量

参数：z方向重复精度3nm，x和y方向重复精度50 nm，移动范围10mm×10mm

温度范围：室温~300℃

红外锁相实验系统

用途：各类独立薄膜材料三维各向异性热物性测量、接触热阻测量

参数：法向与面内热扩散率范围：10⁻⁸ m²/s ~10⁻³ m²/s

温度范围：80K-500K

厚度范围：~μm-4000 μm

微纳米线材热电性能测量系统

用途：各类纤维样品的热电性质测量

参数要求：直径2μm 以上，长度5-20mm左右，提供样品截面形貌图（椭圆、扁平、圆形等），用于后期数据处理

温度范围：80-500K

热导率范围：单位长度热阻 10⁷ -10¹¹ KW⁻¹，对应热导率范围 >0.1 W/m-K

样品是否导电：没有导电要求

其他设备

霍尔效应测量系统

用途：测量薄膜载流子浓度和迁移率

参数：中心磁场2T，温度80-500K

• 红外热像仪
• 探针台
• 膜厚测量仪
• 数据记录仪